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颗粒对CCD光刻图形完整性的影响

发布日期:2018/7/13 10:13:51 点击数:184

                           颗粒对CCD光刻图形完整性的影响
在CCD(电荷耦合器件)制造过程中,颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响,降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面:一个制造过程中工艺环境产生的颗粒;另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员,工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺,比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。
本公司生产的COL-系列无尘烘箱,即使在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100,为CCD(电荷耦合器件)制造过程中烘烤提供洁净环境,预防颗粒沾污
无尘烘箱特点:
1.全周氩焊,耐高温硅胶破紧,SUS304#不锈钢电热生产器,防机台本身所产生微尘;
2.采用进口SUS304#日制800番2mm厚之镜面不锈钢板,并经碱性苏打水清洁,去油污避免烘烤时产生 PARTICLE;
3.采平面水平由后向前送风后经美国进口H.E.P.A Filter 24"×24"×5-7/8"装置往前门(特殊风道设计)方向送风,过滤效率99.99%,Class 100,排气口:3"φ(附自动启闭风门)。
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